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  • 20226-2
    1200℃管式爐采用高質量電爐絲作為加熱元件

    1200℃管式爐采用高質量電爐絲作為加熱元件,加熱溫度可達1200℃,石英爐管管徑為50mm。該款隔熱屏真空熱處理爐各項指標均達到了國際水平,可實現(xiàn)快速升溫和降溫,可實現(xiàn)無氧化、無脫碳、無滲碳,可去掉工件表面的磷屑,并有脫脂除氣等作用,從而達到表面光亮凈化的效果。主要運用于冶金、玻璃、熱處理、鋰電正負極材料、新能源、磨具等行業(yè),也可用于氣氛環(huán)境下的熱處理,也可用于組成CVD系統(tǒng),進行相關的鍍膜試驗生產(chǎn)。1200℃管式爐產(chǎn)品特點:1、一體化設計,結構緊湊,外形美觀,自帶腳輪,移...

  • 20225-20
    壓力燒結爐是生產(chǎn)高性能硬質合金的關鍵設備

    壓力燒結爐結合了脫蠟、真空燒結和后續(xù)的熱等靜壓致密化等工藝,用于硬質合金或工程陶瓷的處理,可在真空、反應氣體和高至100巴的壓力下工作。低孔隙度是高質量硬質合金的重要標志,氣體壓力燒結能有效消除硬質合金孔隙度,達到真空、氫氣燒結爐無法達到的效果。隨著經(jīng)濟的發(fā)展,硬質合金生產(chǎn)技術不斷進步,壓力燒結已經(jīng)成為高質量硬質合金燒結的一種主導技術。在硬質合金生產(chǎn)工藝中,燒結是決定硬質合金結構與性能的關鍵工序。是生產(chǎn)高性能硬質合金的關鍵設備,經(jīng)壓力燒結的硬質合金制品,具有極優(yōu)良的組織結構,...

  • 20225-12
    漲知識!PECVD系統(tǒng)工藝干貨分享

    PECVD系統(tǒng)技術是在低氣壓下,利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上(即樣品放置的托盤)產(chǎn)生輝光放電,利用輝光放電(或另加發(fā)熱體)使樣品升溫到預定的溫度,然后通入適量的工藝氣體,這些氣體經(jīng)一系列化學反應和等離子體反應,最終在樣品表面形成固態(tài)薄膜。在反應過程中,反應氣體從進氣口進入爐腔,逐漸擴散至樣品表面,在射頻源激發(fā)的電場作用下,反應氣體分解成電子、離子和活性基團等。這些分解物發(fā)生化學反應,生成形成膜的初始成分和副反應物,這些生成物以化學鍵的形式吸附到樣品表面,生成固態(tài)膜的晶核...

  • 20225-5
    連續(xù)式回轉爐能夠實現(xiàn)高密封精度的指標要求

    連續(xù)式回轉爐適用于無機鹽粉體材料(如磷酸鐵鋰、碳酸錳、碳酸鋇)、金屬粉體等在氧化性(如空氣)或還原性氣氛(如氮氫混合氣)下的焙燒反應,也適用于化工行業(yè)催化劑載體氧化性處理以及石墨烯、納米材料、稀土等高新材料?;剞D窯的主要特點:在熱處理即焙燒過程中,回轉筒體有個小傾斜度,散裝固體在窯中不斷地從進料端移動到出料端。窯爐一般都是連續(xù)、自動運行的。它們可以直接運輸散裝固體,而不需要進一步的輸送設備,這使得這些窯爐更加節(jié)能。由于回轉窯焙燒工藝對散裝固體或者粉體有著重要的機械影響,因此必...

  • 20224-25
    氣氛管式爐在操作時,以下幾點得注意了

    相信大多數(shù)人都知道,在工業(yè)上使用的氣氛管式爐中,許多可控氣體是可燃的,在特殊的條件下可能發(fā)生爆炸。這種爆炸可能損壞設備和威脅操作人員的人身安全。因此,在設備運行中,應對潛在的危險給予高度重視。在已發(fā)生的事件中,特別引人注意的是,必須按照操作規(guī)程進行操作。在可能發(fā)生危險之前,必須認真分析和研究安全操作規(guī)程。沒有多少設備在任何危急的情況下都能安全地運行。既使能做到這一點,但為了提高生產(chǎn)率,技術熟練的操作者往往也不愿意在整個生產(chǎn)過程中使用所有的安全系統(tǒng)。下面我們一起去看看氣氛管式爐...

  • 20224-19
    淺析PECVD系統(tǒng)的工藝原理

    PECVD系統(tǒng)主要由真空和壓力控制系統(tǒng)、淀積系統(tǒng)、氣體及流量控制、系統(tǒng)安全保護系統(tǒng)、計算機控制等部分組成。該技術是在低氣壓下,利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上(即樣品放置的托盤)產(chǎn)生輝光放電,利用輝光放電(或另加發(fā)熱體)使樣品升溫到預定的溫度,然后通入適量的工藝氣體,這些氣體經(jīng)一系列化學反應和等離子體反應,最終在樣品表面形成固態(tài)薄膜。工藝原理:在反應過程中,反應氣體從進氣口進入爐腔,逐漸擴散至樣品表面,在射頻源激發(fā)的電場作用下,反應氣體分解成電子、離子和活性基團等。這些分解...

  • 20224-12
    滑軌式管式爐淬火不充分引起變形

    滑軌式管式爐是一體化結構設計,用于1100℃以下快速升溫快速降溫的特殊工藝要求,通過移動爐體實現(xiàn)快速冷卻的目的。同時也可以預先設定溫度,然后移動到樣品處,達到快速升溫的效果。適合用于廣泛的RTP工藝及CVD石墨烯工藝。適用于要求升降溫速度比較快的CVD實驗。爐體采用MXG1200開啟式管式爐,爐底安裝有直線滑軌,當生長結束后,左右拉動爐體能夠保證有足夠的空間使實驗樣品移出爐體,實現(xiàn)快速降溫的要求。性能特點:1、工作溫度RT-1000℃;2、日本進口智能程序控溫儀控制精準,可編...

  • 20224-2
    壓力燒結爐的主要功能和特點

    壓力燒結爐采用立式結構由爐體、爐升蓋降機構、真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng),溫控系統(tǒng)等組成。爐體采用雙層水冷結構,內壁為16MnR壓力容器專用鋼,外層優(yōu)質碳鋼,中間通水冷卻。爐內發(fā)熱元件為石墨管,保溫元件為碳氈及石墨復合結構。爐側裝有一觀察孔、紅外測溫口、熱電偶孔。熱電偶選用鎢錸型,同時具有高溫時自動退出加熱區(qū)的功能。適用于氮化硅陶瓷球,陶瓷刀具、LED粉體還原與燒結、硬質合金,粉末冶金燒結等材料在高壓氮氣或氬氣氣氛內進行燒結,有利于增加材料的燒結密度,提高材料的機械性能。燒結工藝應用:...

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